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碳化鉭TaC涂層

碳化鉭TaC涂層


所屬分類:

半導體應用


概要:

碳化鉭涂層是用青島高泰專有的化學氣相沉積(CVD)工藝,在高純度石墨基底表面氣相沉積碳化鉭 (TaC)制備而成。



  • 產品描述
    • 商品名稱: 碳化鉭TaC涂層

    碳化鉭涂層是用青島高泰專有的化學氣相沉積(CVD)工藝,在高純度石墨基底表面氣相沉積碳化鉭 (TaC)制備而成。

    介紹

    碳化鉭涂層是用青島高泰專有的化學氣相沉積(CVD)工藝,在高純度石墨基底表面氣相沉積碳化鉭 (TaC)制備而成。

    高泰 高泰
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    優勢

    ● 卓越的耐熱性

    ● 防止石墨基底顆粒分離、氣體及雜質釋放

    ● 出色的抗腐蝕性

    應用

    ● 碳化硅(SiC)單晶生長部件

    ● 碳化硅外延生長部件

    ● MOCVD 部件

    ● 高溫部件

    性能

    項目

    單位

    數值

    厚度

    μm

    30~50 (可定制)

    密度

    Mg/m3

    14.5

    熔點

    3985

    硬度

    HK

    1550

    電阻率

    μΩ?m

    0.15

    熱導率

    W/m?K

    9-22

    熱膨脹系數

    10-6/K

    7.1

    *因目前全面檢測涂層的方式有限,上述部分數據源于以下文獻,而非保證值 

關鍵詞:

碳化鉭TaC涂層

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